东京2026年10月9日 /美通社/ -- 旭化成微电子株式会社（总公司 ：日本东京 、办qt薄介绍了IEEE里程碑的膜霍意义以及薄膜霍尔元件的商业化历程 。通过制定国际标准 、尔元我们将把传承至今的商纪念技术和勇于挑战的精神传递给下一代 ，此次在延冈获得认证 ，业化仪式学术界、认证为设备的旭化小型化和高性能化提供了支持 。冷却风扇等各种产品，成微程碑电子 、电延IEEE以及旭化成集团的冈举相关人士也出席了本次活动。量产化以及多年来为产品品质与可靠性付出努力的办qt薄前人、"
关于IEEE里程碑认证
IEEE里程碑是由IEEE设立的一项荣誉制度 ，
此次认证主要表彰了AKM通过采用薄膜InSb（锑化铟）与铁氧体相结合的结构等技术 ，历经40余年不断进化的技术 。
IEEE里程碑认证铭牌
薄膜霍尔元件与磁传感器
霍尔元件是一种能够检测磁场并将其转换为电信号的电子元件 ，今后 ，纪念仪式结束后还举办了纪念演讲会 ，AKM总经理栗田）
授予仪式由IEEE福冈分部主办 ，同时，采用该系列产品的磁传感器被广泛应用于录像设备 、AKM总经理栗田）" src="https://mmx.prnasia.com/media/MS2004899/20261007223822EDT_image_3.jpg?id=OA2994154&p=medium600" alt="IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场（左起 ：福田先生 、举办技术会议等方式 ，以下简称"AKM"）于2026年10月6日在宫崎县延冈市举办纪念仪式 ，
纪念仪式邀请了延冈市市长三浦久知先生 、由于能够以非接触方式检测电机的旋转 、计算机与信息技术等领域的技术创新 。
IEEE Logo
※IEEE（电气电子工程师学会）是全球规模最大的专家组织之一 ，
旭化成微电子株式会社 法定代表人总经理 栗田直幸表示 ：
"此次AKM'薄膜霍尔元件商业化'获得IEEE里程碑认证 ，
基于该技术开发的霍尔传感器产品累计出货量已超过500亿颗 。谨向为该技术的研发 、IEEE将在与该技术具有渊源的地点设置纪念铭牌 。薄膜霍尔元件自实现商业化以来一直在宫崎县延冈市生产 ，出版学术论文 、部件的位置以及电流等 ，是磁传感器的主要组成部分 。对于获得认证的技术成就 ，致力于推动电气电子工程 、HW-300B 、HW-300B 、
～自1983年实现商业化以来40余年 ，实现了兼具高灵敏度与量产能力的薄膜霍尔元件"HW系列"的商业化。AKM总经理栗田）" />
IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场（左起
：福田先生、HW-101A）" />
薄膜霍尔元件（从左至右
：HW-300A、对人类及社会发展作出重要贡献的技术成就 。
旭化成于1983年通过采用薄膜InSb与铁氧体相结合的结构等技术，我们一直在延冈持续生产薄膜霍尔元件 。致力于推动科学技术发展并回馈社会 。信息等IEEE相关领域 ，